MOS properties of ultrathin oxides on silicon

P. Morgen, T. Jensen, C. Gundlach, L.-B. Tækker, S.V. Hoffmann, Z. Li, K. Pedersen

    Publikation: Bidrag til tidsskriftTidsskriftartikelForskningpeer review

    OriginalsprogEngelsk
    TidsskriftPhysica Scripta
    Vol/bindT101
    Sider (fra-til)26-9
    ISSN0031-8949
    StatusUdgivet - 2002

    Citer dette

    Morgen, P., Jensen, T., Gundlach, C., Tækker, L-B., Hoffmann, S. V., Li, Z., & Pedersen, K. (2002). MOS properties of ultrathin oxides on silicon. Physica Scripta, T101, 26-9.
    Morgen, P. ; Jensen, T. ; Gundlach, C. ; Tækker, L.-B. ; Hoffmann, S.V. ; Li, Z. ; Pedersen, K. / MOS properties of ultrathin oxides on silicon. I: Physica Scripta. 2002 ; Bind T101. s. 26-9.
    @article{dc25eaa0ba9811dc9626000ea68e967b,
    title = "MOS properties of ultrathin oxides on silicon",
    author = "P. Morgen and T. Jensen and C. Gundlach and L.-B. T{\ae}kker and S.V. Hoffmann and Z. Li and K. Pedersen",
    year = "2002",
    language = "English",
    volume = "T101",
    pages = "26--9",
    journal = "Physica Scripta",
    issn = "0031-8949",
    publisher = "IOP Publishing",

    }

    Morgen, P, Jensen, T, Gundlach, C, Tækker, L-B, Hoffmann, SV, Li, Z & Pedersen, K 2002, 'MOS properties of ultrathin oxides on silicon', Physica Scripta, bind T101, s. 26-9.

    MOS properties of ultrathin oxides on silicon. / Morgen, P.; Jensen, T.; Gundlach, C.; Tækker, L.-B.; Hoffmann, S.V.; Li, Z.; Pedersen, K.

    I: Physica Scripta, Bind T101, 2002, s. 26-9.

    Publikation: Bidrag til tidsskriftTidsskriftartikelForskningpeer review

    TY - JOUR

    T1 - MOS properties of ultrathin oxides on silicon

    AU - Morgen, P.

    AU - Jensen, T.

    AU - Gundlach, C.

    AU - Tækker, L.-B.

    AU - Hoffmann, S.V.

    AU - Li, Z.

    AU - Pedersen, K.

    PY - 2002

    Y1 - 2002

    M3 - Journal article

    VL - T101

    SP - 26

    EP - 29

    JO - Physica Scripta

    JF - Physica Scripta

    SN - 0031-8949

    ER -

    Morgen P, Jensen T, Gundlach C, Tækker L-B, Hoffmann SV, Li Z et al. MOS properties of ultrathin oxides on silicon. Physica Scripta. 2002;T101:26-9.